フォトロニクス社は、電子回路の顕微鏡画像を含む写真の石英板であるフォトマスクのメーカーです。ヨーロッパにある2つの、台湾の3、米国で韓国の1と3：2016年10月30日、当社は9製造設備から主に運営しています。フォトマスクは、半導体やフラットパネルディスプレイ（FPD）の製造に使用され、集積回路（IC）の製造中に半導体ウェハ、フラットパネル基板上に回路パターンを転写するマスターとして使用され、フラットパネルディスプレイおよび他のタイプの範囲電気および光学部品の。当社は、世界中のすべてのサイトでペリクルの交換、マスク洗浄と再認証など、レチクルおよびフォトマスクのメンテナンスを提供しています。同社の製品は成熟したバイナリ、高度なバイナリレチクル、位相シフトマスク - 組込み減衰位相シフトマスク（EAPSM）、その他の高度な製品と大面積のマスクが含まれます。
フォトロニクス社は、電子回路の顕微鏡画像を含む写真の石英板であるフォトマスクのメーカーです。ヨーロッパにある2つの、台湾の3、米国で韓国の1と3：2016年10月30日、当社は9製造設備から主に運営しています。フォトマスクは、半導体やフラットパネルディスプレイ（FPD）の製造に使用され、集積回路（IC）の製造中に半導体ウェハ、フラットパネル基板上に回路パターンを転写するマスターとして使用され、フラットパネルディスプレイおよび他のタイプの範囲電気および光学部品の。当社は、世界中のすべてのサイトでペリクルの交換、マスク洗浄と再認証など、レチクルおよびフォトマスクのメンテナンスを提供しています。同社の製品は成熟したバイナリ、高度なバイナリレチクル、位相シフトマスク - 組込み減衰位相シフトマスク（EAPSM）、その他の高度な製品と大面積のマスクが含まれます。
| （単位：百万円） | 自己資本比率 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2022年10月 | 80.72％ | +4.41% |
| 2021年10月 | 77.31％ | -4.54% |
| 2020年10月 | 80.99％ | -0.55% |
| 2019年10月 | 81.44％ | -0.06% |
| 2018年10月 | 81.49％ | -3.87% |
| 2017年10月 | 84.77％ | +1.48% |
| 2016年10月 | 83.53％ | +14.6% |
| 2015年11月 | 72.89％ | +1.45% |
| 2014年11月 | 71.85％ | +8.29% |
| 2013年11月 | 66.35％ | -3.84% |
| 2012年10月 | 69.0％ | +0.82% |
| 2011年10月 | 68.44％ |
